等离子辅助制备单元层厚度的铁电薄层及其铁电性的表征
Plasma-Assisted Fabrication of Ferroelectric Flakes with Single-Unit-Cell Thickness and Characterization of Ferroelectricity
作者单位E-mail
葛静 东南大学化学化工学院, 南京 211189  
宋贤江 东南大学化学化工学院, 南京 211189  
杜国威 东南大学化学化工学院, 南京 211189  
李浩杰 东南大学化学化工学院, 南京 211189  
游雨蒙 东南大学化学化工学院, 南京 211189 youyumeng@seu.edu.cn 
摘要: 我们报道了一种通过机械剥离和Ar+等离子体减薄过程的组合来制备3.6 nm厚的二维双(苄基铵)四氯化铅(A2PbCl4)的薄层。压电力显微镜测量表明,Ar+等离子体蚀刻后单元层厚度的BA2PbCl4薄层的铁电性仍然保持。
关键词: BA2PbCl4薄层  铁电性  氩等离子体刻蚀
基金项目: 国家自然科学基金(No.21925502)资助。
Abstract: Here, we report a successful method to fabricate a 2D bis(benzylammonium) lead tetrachloride (A2PbCl4) flake with a thickness of 3.6 nm by a combination of mechanical exfoliation and an Ar+ plasma thinning process. Piezoresponse force microscopy (PFM) measurements reveal that the ferroelectricity of the A2PbCl4 flakes with single-unit-cell thickness persists after Ar+ plasma etching.
Keywords: A2PbCl4 flakes  ferroelectricity  Ar+ Plasma etching
投稿时间:2020-03-09 修订日期:2020-04-13
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葛静,宋贤江,杜国威,李浩杰,游雨蒙.等离子辅助制备单元层厚度的铁电薄层及其铁电性的表征[J].无机化学学报,2020,36(6):1163-1168.
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